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低温光刻胶



产品应用

                                                                                                                               



可直接应用于OLED面板,适应折叠、卷轴等形态变化的场景,替代圆偏光片,

减少环境光影响,完美继承了欣奕华光刻胶产品的高色域基因,可满足目前所有

PPI使用。



产品技术

                                                                                                                               


传统TFT-LCD用采用光刻胶需要230℃固化,而由于EL材料无法承受高温,

工艺温度需降低到100℃以下,欣奕华在国内首创低温彩色光刻胶,可实

现85°以下低温固化,技术能力国际领先。


PDL



产品应用

                                                                                                                     

      

PDL材料是在AMOLED蒸镀前通过光刻工艺制作的像素定

义层,用于划分子像素发光区域和减少相邻像素之间的混色



产品技术

                                                                                                                      


- 光敏聚酰亚胺(PSPI)广泛应用于柔性AMOLED显示中有机

功能层材料(PDL/PLN/PS),是一类兼具感光性能、优异耐热

性能、力学性能电绝缘性能的聚酰亚胺材料。

- 欣奕华自主研发的PDL用光敏聚酰亚胺材料开发已经实现树

脂5L放大合成稳定生产,光刻胶配方优化基本完成,在所测

试的相关解性能、热学、力学、电学等各项性能指标测试

均达国际先进水平。


量子点光刻胶

    



产品应用

                                                                                                                                                              


- 量子点技术分类包括QD-film、QDCF和AMQLED三种技术,是目前最好的高色域解决方案,在液晶显示和主动发光显示中获得广泛应用。

- 欣奕华将QD材料分散到光刻胶体系制备量子点光刻胶,并在开发过程中针对实验现象做出了技术突破与创新。

- 与传统的光刻胶相比,QDPR材料在色彩色纯度和光转换效率上具有明显的优势,在QD-OLED面板,全彩化Micro LED等新型显示有很好应用。


产品技术

                                                                                                                                                               

 

像素化排列的量子点微结构,蓝光激发转换出高纯度红绿光,起到部分取代CF的作用。独特的配方技术,有效保证量子点在光刻胶体系内的分散性和稳定性,可实现高色域面板显示效果。


热回流胶

产品应用

                                                                                                                                                                             


在OLED领域,可用于控制从面板反射到观察者光的方向,提高显示效果。

- 在图像传感器领域,可大幅提高器件灵敏度,响应速度,提高信噪比,是图像传感器的关键材料之一。



产品技术

                                                                                                                                                                               


-光刻胶经过曝光、显影后,再加热回流(reflow), 利用光刻胶胶的表面张力,形成微透镜形状,实现光

聚焦。


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