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ArF光刻胶

产品应用
                                                                                                                                
集成电路:
-28-90nm技术节点
-逻辑、存储、功率器件
-poly,gate,contact,via,metal等工艺层制作


产品特点
                                                                                                                                

-分辨率:65-130nm
-高分辨,高对比度,宽工艺窗口





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